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大阪大学超精密弹性发射抛光

大阪大学超精密弹性发射抛光

山内研究室（超精密加工領域）：大阪大学精密科学コース

これが科学技術の進歩の第一歩です。本研究室は、数100mmスケールに亘る大面積表面において、原子スケールでの構造制御を行うGiantScale Nanotechnologyに取り組んでいます。近年展开2021年12月30日 — 弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。基本原理如图1所弹性发射光学制造技术研究进展2018年11月6日 — 本研究では、文部科学省高エネルギー加速器研究機構との共同研究によって、測定対象面の法線を絶対精度5×108 rad（5nm/100mm）以上で計測し、その値を積分することによってnm 遠藤研究室（超精密科学研究センター）：大阪大学 2021年4月2日 — 8月16日、山村先生が8月16日付で大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻精密科学講座先端機器システム領域の教授に就任されました。大阪大学大学院工学研究科附属精密工学研究センター

弹性发射光学制造技术研究进展

2021年1月22日 — 弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。2021年3月23日 — 工技术研究进展的基础上, 重点介绍了一种基于等离子体氧化改性的SiC高效超精密抛光技术, 分析了该技术的材料去除机理、典型装置、改性过程及抛光效果Plasmaassisted polishing for atomic surface fabrication 2015年4月9日 — 2019年1月3日第3节将超精密加工技术分为超精密切削、超精密磨削和超精密研磨抛光三类。 (1)弹性发射加工(Elasticemissionmachine,EEM)。日本大阪大大阪大学超精密弹性发射抛光深紫外光刻,极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展,要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS(Root 弹性发射光学制造技术研究进展百度学术

一种非接触式抛光中恒力控制及间隙调整装置及方法

2023年7月7日 — 2、典型的非接触式抛光以弹性发射加工为例，弹性发射加工(elastic emissionmachining，eem)是日本大阪大学森勇藏教授在二十世纪七十年代提出的一种超超精密加工之气囊抛光超精密加工之气囊抛光超详细介绍首页文档视频音频文集文档公司财报弹性发射加工(Elastic emission machine ，EEM)。日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以原子级去除材料的可行性，建立了弹性发射加工理论，其如超精密加工之气囊抛光百度文库2012年11月7日 — 32 难加工材料的加工对于硬脆材料的精密加工，超精密研磨、抛光是一种有效的手段。运用特种加工技术如离子束抛光、弹性发射加工等，可明显提高加工表面质量。美国 Frankfurt 兵工厂采用氩离子束抛光火控系统用的高精度非球面镜，精度达到 002λ。精密超精密加工技术在航天领域的应用与展望pdf 豆丁网2016年8月12日 — 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工弹性发射加工是一种可超精密研磨抛光方法

超精密研磨抛光方法豆丁网

2009年4月30日 — 超精密研磨抛光方法上海市静安区职工大学荣烈润摘要：介绍了几种近代超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加工对象和应用。关键词：超精密研磨；弹性发射加工；机械化学研磨；磁力研磨；超声研磨1概述超精密加工技术标志着一个国家机械制造业的水平，在提高光机电产品的性能、质量 2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光弹性发射光学制造技术研究进展2019年3月1日 — 在本文中，我们提出了一种处理 LYSO 晶体表面的超精密方法。使用纳米压痕技术初步测量了晶体的硬度和弹性模量。通过 3DOPS 测量得到的平均粗糙度 Ra 为 055 nm，是通过精密板材研磨和抛光技术实现的。用于正电子发射断层扫描的 LYSO 闪烁体晶体的超精密表面 2021年10月8日 — 弹性发射数控抛光系统设计及搭建点1点2点3平均值Ra1389129012491309Rq1720188616971768行弹性发射加工，且实验表明经过该装置弹性发射抛光后工件表面粗糙度有所降低。 4 结语弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在合适的抛光参数下弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度文库

侯溪中国科学院大学UCAS SEP 教育业务接入平台

超精密光学制造与检测团队负责人，主持完成国家重大科技专项、国家973子课题、国家张翅翔, 杨旭宁, 孟禹彤, 侯溪用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪一种光学元件第7章超精密研磨与抛光第二节精密研磨、抛光的主要工艺因素研磨方法 (单面、双面、旋转、往复) 弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉第7章超精密研磨与抛光百度文库基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。流体动压超光滑加工关键工艺参数优化 NUDT2023年7月7日 — 2、典型的非接触式抛光以弹性发射加工为例，弹性发射加工 (elastic emissionmachining，eem)是日本大阪大学森勇藏教授在二十世纪七十年代提出的一种超精密加工方法，弹性发射加工不同于使用研磨垫的传统抛光，它是一种非接触式的加工工艺，加一种非接触式抛光中恒力控制及间隙调整装置及方法

超光滑表面加工技术研究进展

2015年7月8日 — 21 弹性发射加工日本大阪大学的Mori[7]首先提出弹性发射加工ꎬ 该方法是利用电机带动聚氨酯球高速旋转ꎬ在聚氨酯球与工件之间形成的流体动压流来促使磨粒以近似水平角度冲击工件表层凸起的原子堆ꎬ造成工件表层原2021年11月16日 — 深紫外光刻、极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展，要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS(Root Mean Square)亚纳米量级甚至几十皮米，推动超光滑光学元件制造要求不断逼近物理极限。目前，对于如何实现上述超高精度要求弹性发射光学制造技术研究进展中国光学中国光学期刊网6 天之前 — 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究百度学术

面向单晶SiC原子级表面制造的等离子体辅助抛光技术

目前Si基半导体由于其自身材料特性的限制, 已经越来越难以满足高速发展的现代电力电子技术对半导体器件的性能要求 SiC作为新一代半导体材料具有显著的性能优势, 但由于其属于典型的难加工材料, 实现SiC晶圆的高质量与高效率加工成为了推动其产业化应用进程的关键2019年6月12日 — 第5章超精密研磨与抛光(康仁科) 大连理工大学ppt,磁流变抛光技术优点能够获得质量很高的光学表面；易于实现计算机控制，得到复杂面形的光学零件高加工效率；磁流变抛光液在抛光区内循环使用，可以带走抛光区内切屑和热量；同时，在抛光区外对磁流变抛光液进行稳定性控制；振动、磨损第5章超精密研磨与抛光(康仁科) 大连理工大学ppt 原创力文档2012年3月8日 — 浙江工业大学硕士学位论文DJP．9BC超精密双面抛光机结构设计和实验研究作者姓名：指导教师：**李伟教授浙江工业大学机械工程学院2011年4月｜III｜fI｜lDJP9BC超精密双面抛光机结构设计和实验研究豆丁网2010年1月21日 — 14 在传统抛光设备和方法的基础上,RDietz 提出的浴法抛光改变了抛光液的供给。17 日本大阪大学森勇藏YMori等人发展的弹性发射目前,日本在声、光、图像、办公设备中的小型、超小型电子和光学零件的超精密。弹性发射加工Elastic 弹性发射加工eem设备

超精密磨粒加工新发展及应用参考网

2020年9月10日 — 近年来也发展了许多先进的抛光技术，先进的自由磨粒超精密抛光方法有磁流变抛光、化学机械和电复合等抛光、磨粒流喷射表面光整加工抛光、复合磨粒的超精密抛光、等离子体辅助磨粒抛光、力流变抛摘要：对超精密磁流变复合抛光技术的国内外研究进展进行了评述,介绍了当前主要应用的几种超精密磁流变复合抛光技术的加工原理和发展现状重点介绍了磁流变射流复合抛光,超声波磁流变复合抛光,化学机械磁流变复合抛光以及集群磁流变复合抛光的加工技术内涵,从加工效率,加工表面均匀性超精密磁流变复合抛光技术研究进展百度学术2024年4月8日 — 中国“卡脖子”的35项关键技术：超精密抛光技术的突破之路随着科技的不断进步，中国正努力攻克一系列被外界称为“卡脖子”的关键技术。超精密抛光技术作为其中的一项，对于提升我国制造业水平和实现高端装备自主化具有重要意义。那么中国“卡脖子”的35项关键技术：超精密抛光技术的突破之路基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。流体动压超光滑加工关键工艺参数优化

单晶金刚石的抛光与平坦化：现状与展望

对抛光前后的金刚石表面进行XPS分析，如图4所示。从未抛光和抛光的金刚石表面都检测到C1s（~2850 eV）和O1s（~5310 eV）的强峰（图4a）。一般来说，C1s区域决定了CMP过程中金刚石薄膜表面化学性质的变化。2007年9月24日 — 通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。近年来，光学及微电子学极大地推动了光学加工技术的发展。大规模或超大规模集成电路对所用基片(通常为硅、锗等材料)的表面精度提出了很浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA2021年1月22日 — 弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性弹性发射光学制造技术研究进展基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。流体动压超光滑加工关键工艺参数优化 NUDT

第7章超精密研磨与抛光百度文库

第7章超精密研磨与抛光精密和超精密加工第7 章超精密研磨与抛光课件首页文档视频音频文集文档公司财报弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进行加工。2016年3月31日 — 对超精密磁流变复合抛光技术的国内外研究进展进行了评述，介绍了当前主要应用的几种超精密磁流变复合抛光技术的加工原理和发展现状重点介绍了磁流变射流复合抛光、超声波磁流变复合抛光、化学机超精密磁流变复合抛光技术研究进展2019年1月4日 — 除 CMP 技术外，经典的超精密研磨抛光方法还有以下几种。 (1) 弹性发射加工(Elastic emission machine，EEM)。日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面，以原子级去除材料的可行性，建立了弹性超精密加工现状综述资讯超硬材料网2018年7月6日 — 法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法和实验结果ꎬ可以得出结论:依赖于磨粒与工件表面间的准/非接触形态的具有流体动压效应的抛光线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗

面向光学玻璃的精密加工技术研究百度学术

摘要：随着科学技术的发展,工业领域需要大量的大平面光学玻璃元件传统的光学加工方法不能满足大平面光学玻璃零件提出的加工效率和加工表面质量两个主要方面的要求,因此研究一种具有高效率和高精度的光学零件加工方法具有重要的实际意义弹性射流抛光是一种新型的光学零件精密加工方法 2014年10月30日 — 超光滑表面抛光技术杨1,陈建清1,陈志刚2陈(11江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江;21江苏工业学院,江苏常州)[摘要]超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一超光滑表面抛光技术豆丁网2014年11月29日 — 二、几种超精密研磨抛光方法 21、基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211、弹性发射加工几种超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加2024年5月8日 — 日本大阪大学井川直哉教授等开始采用计算机仿真，逐步向揭开微量切削的奥秘迫近。超精密加工方法主要包括超精密切削（车、铣）、超精密磨削、超精密研磨（机械研磨、化学机械研磨、非接触式浮动研磨、弹性发射加工等）以及超精密特种半导体硅晶片超精密加工研究

超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技

2024年6月17日 — 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技晶体元件精密光学元件激光器件非线性光学晶体航空、激光和核聚变等领域的快速发展促使了对光学元件的指标要求越来越高，不仅要求各项光学指标达到极高的精度，对表面粗糙度也提出了低至埃级的超光滑表面要求。弹性射流抛光是一种新型的光学零件精密加工方法，它通过高速旋转的抛光工具控制磨料射流对工件表面的加工过程，使工件表面材料均匀去除，得到超光滑的表面，同时保证了光学玻璃较好的表面质量和较高的抛光效率。本论文的工作内容包括以下面向光学玻璃的精密加工技术研究超精密加工之气囊抛光超精密加工之气囊抛光超详细介绍首页文档视频音频文集文档公司财报弹性发射加工(Elastic emission machine ，EEM)。日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以原子级去除材料的可行性，建立了弹性发射加工理论，其如超精密加工之气囊抛光百度文库2012年11月7日 — 32 难加工材料的加工对于硬脆材料的精密加工，超精密研磨、抛光是一种有效的手段。运用特种加工技术如离子束抛光、弹性发射加工等，可明显提高加工表面质量。美国 Frankfurt 兵工厂采用氩离子束抛光火控系统用的高精度非球面镜，精度达到 002λ。精密超精密加工技术在航天领域的应用与展望pdf 豆丁网

超精密研磨抛光方法

2016年8月12日 — 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工弹性发射加工是一种可 2009年4月30日 — 超精密研磨抛光方法上海市静安区职工大学荣烈润摘要：介绍了几种近代超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加工对象和应用。关键词：超精密研磨；弹性发射加工；机械化学研磨；磁力研磨；超声研磨1概述超精密加工技术标志着一个国家机械制造业的水平，在提高光机电产品的性能、质量超精密研磨抛光方法豆丁网2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光弹性发射光学制造技术研究进展2019年3月1日 — 在本文中，我们提出了一种处理 LYSO 晶体表面的超精密方法。使用纳米压痕技术初步测量了晶体的硬度和弹性模量。通过 3DOPS 测量得到的平均粗糙度 Ra 为 055 nm，是通过精密板材研磨和抛光技术实现的。用于正电子发射断层扫描的 LYSO 闪烁体晶体的超精密表面

弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度文库

2021年10月8日 — 弹性发射数控抛光系统设计及搭建点1点2点3平均值Ra1389129012491309Rq1720188616971768行弹性发射加工，且实验表明经过该装置弹性发射抛光后工件表面粗糙度有所降低。 4 结语弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在合适的抛光参数下超精密光学制造与检测团队负责人，主持完成国家重大科技专项、国家973子课题、国家张翅翔, 杨旭宁, 孟禹彤, 侯溪用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪一种光学元件侯溪中国科学院大学UCAS SEP 教育业务接入平台第7章超精密研磨与抛光第二节精密研磨、抛光的主要工艺因素研磨方法 (单面、双面、旋转、往复) 弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉第7章超精密研磨与抛光百度文库